2台国产DUV光刻机的问世意味着什么？ - 知乎
另外，浸润式DUV,和干式DUV，其中最大的区别，就是在晶圆前面，加了一层介质水。 干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质，浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质，而光线在水中产生折 …
14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的？ - 知乎
DUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nm（N7)以及7nm以前的工艺里。 伴随着工艺的继续微缩，DUV已经力不从心，所以现在无论是台积电还是三星 …
Why are we going from DUV straight to EUV lithography?
Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer. There is an energy density charge transfer explosive …
国产duv光刻机出来了，中芯国际是否能在一年内达到10-7nm左右的等 …
Jan 23, 2025 · 少数客户是谁，影响范围可能有多大？ ASML没有答案。 由于更先进的EUV光刻设备早在2019年被禁运，此次被限制出口的2050i，2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型 …
DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪儿？ - 知乎
相比之下，DUV技术的波长通常在193纳米左右，尽管这在传统意义上已经算是非常短的波长了，但在EUV面前还是显得有些“力不从心”。 为什么EUV能够在半导体制造中占据如此重要的位置呢？
有自媒体报道中国的28nm光刻机成功交付使用，如何看待？ - 知乎
分辨率公式 也就是说28nm光刻机，如果是指分辨率的话，中国的光刻机要在物镜系统和掩膜技术远远超越ASML才可以，最有可能的是也就是在DUV领域，中国光刻机数值孔径比ASML大很多，high NA …
上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗？ - 知乎
一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机，直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机， 用365nm光源的是i-line光刻 …
华为新凯来要研究出来5-28nm光刻机了，那么还要多久能回到2000卖 …
Mar 29, 2025 · 这段时间努力扩大duv生产线规模，打磨制造工艺，提升良率水平，先把7-14-28纳米搞成白菜价，从台积电魏哲家老小子那切一大块蛋糕，平时不是牛逼哄哄的叫嚣矽盾护台吗？ 我老中这 …
什么是E-Beam与DUV光刻技术？ - 知乎
硅光工艺DUV与E-beam 53 赞同 · 12 评论 文章 补充： 1、上面观点还是有一些不对的地方，193nm DUV 如果通过浸没式扫描光刻，可以实现22nm节点工艺。 2、最近在youtube上看到一个关于E …
光刻设备如何分类？ - 知乎
光刻设备，即光刻机，可以根据不同的分类标准划分为多种类型。 1. 根据光源类型分类： EUV光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography）：采用极紫外光（波长约13.5纳米）作为光源，适用于最先进节 …